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旋轉電鍍設備

應用于電子、封裝、精密元器件、新材料等產品的電鍍、電鑄工藝處理。

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一、適用范圍

鍍層均勻性及鍍層質量要求較高的電鍍、電鑄處理工藝。


二、應用領域

應用于電子、封裝、精密元器件、新材料等產品的電鍍、電鑄工藝處理。


三、設備特點

1、擁有自主知識產權,獲得國家發明專利;

2、旋轉方式多樣,可實現公轉、公轉+自轉,轉速、轉向可調;

3、傳動方式多樣可實現上傳動、下傳動,亦可根據用戶要求定制;

4、大幅改善電力場、溫度場、濃度場的均勻性,提高鍍層質量及均勻性, COV值較傳統掛鍍提高5-10倍。


四、應用現場


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